形位公差之平面度測量 作者: 來源: 時間:2017-11-06 點擊次數:次
一、概念
平面度:指基片具有的宏觀凹凸高度相對理想平面的偏差。
平面度公差為0.1,實際平面必須位于距離為0.1的兩平行平面內
二、平面度測量方法
1、平晶干涉法
平晶干涉法用光學平晶的工作面體現理想平面,直接以干涉條紋的彎曲程度確定被測表面的平面度誤差值。
缺點:只能用于測量小平面,如量規的工作面和千分尺測頭測量面的平面度誤差。
2、光波干涉法
光波干涉法常利用平晶進行,可以把干涉圖案作為被檢驗表面的等高線,因此可以畫出該表面的形狀。
缺點:這種方法僅適宜測量高光潔表面,測量面積也較小。
3、打表測量法
打表測量法是將被測零件和測微計放在標準平板上,以標準平板作為測量基準面,用測微計沿實際表面逐點或沿幾條直線方向進行測量。
缺點:測量過程復雜,人為誤差大。
4、液平面法
液平面法是用液平面作為測量基準面,液平面由 “連通罐”內的液面構成,然后用傳感器進行測量。
缺點:此法主要用于測量大平面的平面度誤差。
5、三坐標測量法
優點:弗爾迪公司自主研發生產的FD-M、FD-S及FD-Y系列三坐標測量機在測量平面度時可以通過測量軟件自動進行平面度誤差計算與分析,完全不需人工計算,大大提高測量效率和準確率。
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